- trimethylaluminum
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Atomic Layer Deposition — Die Atomlagenabscheidung (engl. atomic layer deposition, ALD) ist ein stark verändertes CVD Verfahren zur Abscheidung von dünnen Schichten. Verschiedene Namen ein Prinzip, die Atomlagenabscheidung[1] Bezeichnung Abkürzung Atomic layer deposition… … Deutsch Wikipedia
Atomlagenabscheidung — Die Atomlagenabscheidung (englisch atomic layer deposition, ALD) ist ein stark verändertes CVD Verfahren zur Abscheidung von dünnen Schichten. Diese haben in der Regel eine polykristalline oder amorphe Struktur. Für einkristalline… … Deutsch Wikipedia
Organometallic chemistry — n Butyllithium, an organometallic compound. Four lithium atoms are shown in purple in a tetrahedron, and each lithium atom is bound to a butyl group (carbon is black, hydrogen is white). Organometallic chemistry is the study of chemical compounds … Wikipedia
Methylaluminoxane — Identifiers Properties Molecular formula (Al(CH3)xOy)n Appearance white solid Hazards Main hazards … Wikipedia
Trimethylaluminium — IUPAC name trimethylalumane … Wikipedia
Trimethylaluminium — Strukturformel Allgemeines Name Trimethylaluminium S … Deutsch Wikipedia
Chiral Lewis acid — Chiral Lewis acids (CLAs) are a novel class of Lewis acid catalyst used in enantioselective asymmetric synthesis reactions which produce optically active products from optically inactive or impure starting materials. This type of preferential… … Wikipedia