- tetraethoxysilane
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The compound (CHO)Si; it is used in silicon dioxide vapour deposition, and in the waterproofing of stoneSyn: tetraethyl silicate
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tetraethoxysilane — tet·ra·eth·oxy·silane … English syllables
tetraethoxysilane — |te.trəˌe|thäksē+ noun Etymology: tetra + eth + oxy + silane : ethyl silicate … Useful english dictionary
Procede sol-gel — Procédé sol gel Les procédés sol gel permettent la production de matériaux vitreux sans recourir à la fusion. Depuis des temps immémoriaux, le verre est fabriqué à partir de silice et d’autres composés chimiques (soude, chaux, magnésie…). La… … Wikipédia en Français
Procédé sol-gel — Les procédés sol gel permettent la production de matériaux vitreux sans recourir à la fusion. Depuis des temps immémoriaux, le verre est fabriqué à partir de silice et d’autres composés chimiques (soude, chaux, magnésie…). La fusion de ces… … Wikipédia en Français
Procédés sol-gel — Procédé sol gel Les procédés sol gel permettent la production de matériaux vitreux sans recourir à la fusion. Depuis des temps immémoriaux, le verre est fabriqué à partir de silice et d’autres composés chimiques (soude, chaux, magnésie…). La… … Wikipédia en Français
Sol-gel — Procédé sol gel Les procédés sol gel permettent la production de matériaux vitreux sans recourir à la fusion. Depuis des temps immémoriaux, le verre est fabriqué à partir de silice et d’autres composés chimiques (soude, chaux, magnésie…). La… … Wikipédia en Français
Silicone — Not to be confused with the metalloid chemical element Silicon. Silicone caulk can be used as a basic sealant against water and air penetration. Silicones are inert, synthetic compounds with a variety of forms and uses. Typically heat resistant… … Wikipedia
Silicone resin — Silicone resins are a type of silicone material which is formed by branched, cage like oligosiloxanes with the general formula of RnSiXmOy, where R is a non reactive substituent, usually Me or Ph, and X is a functional group H, OH, Cl or OR.… … Wikipedia
Plasma-enhanced chemical vapor deposition — PECVD machine at LAAS technological facility in Toulouse, France. Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) is a process used to deposit thin films from a gas state (vapor) to a solid state on a substrate. Chemical reactions are involved… … Wikipedia
Tetraethyl orthosilicate — Chembox new ImageFileL1 = Tetraethyl orthosilicate.svg ImageSizeL1 = 150px ImageFileR1 = Tetraethyl orthosilicate 3D.png ImageSizeR1 = 150px IUPACName = tetraethoxysilane OtherNames = tetraethyl orthosilicate; ethyl silicate; silicic acid,… … Wikipedia